Kesan Peningkatan Suhu Terhadap Pembentukan Titanium Silisida
Penyelidikan ini bertujuan untuk mengkaji kesan suhu ke atas lapisan titanium silisida (TiSi2) yang ditumbuhkan ke atas wafer silikon. Penyelidikan ini dijalankan untuk meneliti kesan peningkatan suhu terhadap pembentukan titanium silisida. Penyelidikan ini bertujuan untuk membuat perbandingan...
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Monograph |
| Language: | English |
| Published: |
Universiti Sains Malaysia
2005
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://eprints.usm.my/57572/ http://eprints.usm.my/57572/1/Kesan%20Peningkatan%20Suhu%20Terhadap%20Pembentukan%20Titanium%20Silisida_Prakash%20Babu%20Balakrishnan.pdf |