Formation of zro2 thin films by thermal oxidation of sputtered zr on si and sic substrates [TN1-997]. - Tedi, Kurniawan (2009)
Lapisan nipis ZrO2 untuk aplikasi get dielektrik telah dibentuk di atas substrat Si dan SiC dengan menggunakan kombinasi proses pemercitan logam dan pengoksidaan haba.